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イオンインプランテーション
【イオンインプランテーション】
【ioninpurante-syon】
离子种入(法)
イオン·インプランテーション
【イオンインプランテーション】
【ioninpurante-syon】
【英】ion implantation
〈化学〉离子注入(将在真空中加速到一定能量的杂质离子打到半导体晶片上，使之进入内部)。
イオンインプランテーション
【イオンインプランテーション】
【ioninpurante-syon】
离子注入
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